CuNi2SiCr は、1.6〜2.5% のニッケル、0.5〜1.2% のケイ素、0.2〜0.8% のクロムを含む析出硬化型銅合金です。優れた電気伝導率(40〜60% IACS)、機械的強度(最大 700 MPa)、および耐摩耗性のバランスを提供し、高性能な電気接点、スイッチ部品、航空宇宙用コネクタに最適です。
直接金属レーザ焼結(DMLS)および選択性レーザ溶融(SLM)により、CuNi2SiCr は±0.05 mm の寸法精度を達成し、印刷後の機械的完全性と導電性を維持できます。
国 | 規格番号 | その他の名称/呼称 |
|---|---|---|
米国 | C70250 | Alloy 7025 |
欧州 | CW111C | EN 1652 |
中国 | QNi2SiCr | GB/T 2059 |
日本 | C7025 | JIS H3100 |
特性カテゴリ | 特性 | 値 |
|---|---|---|
物理的 | 密度 | 8.85 g/cm³ |
融点 | 1,070〜1,085°C | |
熱伝導率 | ~200 W/m·K | |
電気伝導率 | 40〜60% IACS | |
化学的 | 銅 (Cu) | 残部 |
ニッケル (Ni) | 1.6〜2.5% | |
ケイ素 (Si) | 0.5〜1.2% | |
クロム (Cr) | 0.2〜0.8% | |
機械的 | 引張強さ(時効後) | 600〜700 MPa |
降伏強さ(時効後) | 450〜600 MPa | |
伸び | ≥10% | |
硬さ(ビッカース HV) | 140〜180 HV |
工程 | 達成可能な典型的密度 | 表面粗さ (Ra) | 寸法精度 | アプリケーションのハイライト |
|---|---|---|---|---|
≥99% | 8〜12 µm | ±0.05 mm | 複雑な形状を持つ高強度・導電性部品に最適 | |
≥99.5% | 6〜10 µm | ±0.05 mm | 航空宇宙用端子、耐熱コネクタ、スプリング接点に理想 |
強度と導電性のトレードオフ:時効処理後の CuNi2SiCr は、最大 60% IACS の導電率で 700 MPa の強度を発揮し、機械的および電気的負荷がかかる部品に理想的です。
微細形状の要件:DMLS および SLM は、精度が要求される薄肉構造や複雑な接点(壁厚<0.4 mm)に適しています。
耐熱性および耐疲労性:低い熱膨張率と高い疲労強度により、動的負荷用途や熱サイクル環境に優れています。
後処理との適合性:CuNi2SiCr は時効硬化と CNC 仕上げによく反応し、接触抵抗と形状を維持するために重要です。
時効硬化:450〜480°C で 1〜4 時間時効処理を行うことで、引張強さを向上させ、導電率を安定化すると同時に結晶粒構造を微細化します。
CNC 加工:厳しい公差(±0.02 mm)を達成し、信頼性の高い電気接触のための界面表面を準備するために使用されます。
研磨および電解研磨:低抵抗接点および外観が重要な可視部品のために、表面粗さ Ra < 0.5 µm を実現します。
ショットピーニング:耐疲労性と表面硬度を向上させ、スプリングコネクタや機械的接点に理想的です。
印刷中の合金偏析:均一な粉末サイズと最適化されたスキャン戦略により、元素偏析を防ぎ、均質な組成を維持します。
入熱量の管理:制御されたエネルギー密度により、過時効や変形を回避し、強度と寸法精度を保持します。
表面酸化皮膜の除去:印刷後の電解研磨と洗浄により、電子機能または RF 機能のための最適な導電性を確保します。
CuNi2SiCr は以下の分野で広く使用されています:
エレクトロニクス:高サイクルスイッチ、マイクロリレー、電気用スプリングコネクタ。
航空宇宙:アビオニクス信号経路、耐振動接触システム、構造用電気継手。
自動車:EV 用バスバー端子、ヒューズボックスコネクタ、信号グラウンドラグ。
通信および RF:スプリングロードソケット、熱リレー、シールドモジュール。
事例研究:3D プリントされた CuNi2SiCr アビオニクスコネクタは、670 MPa の引張強さ、52% IACS の導電率を達成し、疲労試験において 100,000 回の機械サイクルにわたり一貫した性能を示しました。
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