材料 | 纯度 (%) | 热导率 (W/m·K) | 电阻率 (Ω·cm) | 抗弯强度 (MPa) | 最高工作温度 (°C) |
|---|---|---|---|---|---|
>99% | 170–200 | >10¹³ | 300–350 | 900 |
氮化铝 (AlN): 适用于高功率电子基板、热界面材料以及需要高导热率(约180 W/m·K)、优异介电强度和高温化学稳定性的LED散热器。
属性 | 氮化铝3D打印性能 |
|---|---|
尺寸精度 | ±0.05–0.1 mm |
密度(烧结后) | >97% 理论密度 |
最小壁厚 | 0.5–1.0 mm |
表面粗糙度(烧结态) | Ra 2–5 μm |
特征尺寸分辨率 | 100–150 μm |
卓越的热管理: AlN的高导热率显著提高了高功率电子组件的冷却效率,延长了设备寿命。
电绝缘性: 高介电强度和热导率使其成为功率模块的理想选择,确保散热的同时防止漏电。
轻量化与复杂形状: 3D打印能够生产复杂的几何形状,如嵌入式冷却通道和晶格结构,无需额外工装。
快速定制: 更短的开发周期允许快速适应不断变化的电子设计需求,用于定制散热器和基板几何形状。
一家电力电子制造商需要为在高热负荷下运行的绝缘栅双极晶体管(IGBT)模块定制高性能基板。利用我们的氮化铝3D打印服务,我们生产的AlN基板实现了超过180 W/m·K的热导率、±0.05 mm以内的尺寸精度以及超过10¹³ Ω·cm的电阻率。集成3D打印的微通道冷却结构进一步将热管理效率提升了25%,从而提高了模块可靠性并延长了使用寿命。后处理包括CNC加工,用于金属化准备和精密表面处理。
用于IGBT和MOSFET模块的定制AlN基板。
用于SiC和GaN半导体器件的高导热基板。
用于射频和微波系统的散热器。
用于高功率LED的高效热管理基板。
用于紧凑照明系统的集成冷却组件。
用于紫外和红外LED模块的反射和绝缘载体。
用于高频器件的陶瓷封装和载体。
用于5G和卫星通信系统的热界面材料。
用于关键电子组件的高压隔离器。
粘结剂喷射: 最适合可扩展生产轻量化、导热的AlN组件。
光固化成型 (SLA/DLP): 适用于具有优异表面光洁度的高精度、精细细节AlN基板。
材料挤出: 适用于生产具有中等至大型几何形状的坚固AlN部件。
为什么氮化铝在高功率电子冷却应用中更受青睐?
3D打印的AlN与传统机加工的基板相比如何?
氮化铝3D打印部件需要哪些后处理步骤?
AlN 3D打印能否实现用于增强冷却的微通道结构?
哪些行业可以从使用3D打印的氮化铝组件中受益?