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二氧化硅 (SiO2)

用于 3D 打印的高纯度陶瓷,适用于需要卓越细节和抗热震性的热学、介电及铸造应用。

二氧化硅 (SiO₂),通常称为熔融石英,是一种轻质、热稳定性优异的陶瓷,具有出色的介电性能和抗热震性。它广泛应用于熔模铸造、微流控器件和高温绝缘应用。

通过陶瓷 3D 打印技术,可以高精度地制造复杂的 SiO₂ 零件,且后处理需求极少。增材制造能够实现内部通道、精细细节,并将复杂特征无缝集成到轻质耐热结构中。

二氧化硅相似牌号表

牌号类型

纯度 (%)

典型应用

熔融石英

≥99.8

熔模铸造模具、航空航天绝缘材料

石英(晶体)

99.5–99.9

光学元件、高频电子器件

玻璃态 SiO₂(非晶态)

96–99

微流控、射频基板、芯片实验室器件

二氧化硅综合性能表

类别

属性

数值

物理性能

密度

2.20 g/cm³

熔点

~1715°C

导热系数 (25°C)

1.4 W/(m·K)

电阻率 (25°C)

>10¹⁶ Ω·cm

热膨胀系数 (25–1000°C)

0.55 µm/(m·K)

机械性能

硬度 (维氏)

500–600 HV

弯曲强度

60–100 MPa

抗压强度

≥400 MPa

弹性模量

70 GPa

断裂韧性 (K₁C)

0.7–1.0 MPa·m½

二氧化硅 3D 打印技术

SiO₂ 主要采用粘结剂喷射 (Binder Jetting) 和光固化 (Vat Photopolymerization, VPP) 技术进行打印,随后进行脱脂和烧结。这些工艺能够生产薄壁、耐热且高度复杂的陶瓷部件。

适用工艺表

技术

精度

表面质量

机械性能

适用应用

光固化 (VPP)

±0.05–0.2 mm

优异

良好

微流控、光学夹具

粘结剂喷射

±0.1–0.3 mm

良好

中等

熔模铸造模具、型壳

二氧化硅 3D 打印工艺选择原则

对于微通道、薄壁光学或传感器组件等具有精细特征的应用,推荐使用VPP 工艺,可实现小于 Ra 2 µm 的表面光洁度和高形状保真度。

粘结剂喷射 工艺非常适合大型复杂铸造模具和热屏蔽件,其分辨率适中 (±0.1–0.3 mm),且烧结后具有出色的热稳定性。

二氧化硅 3D 打印的关键挑战与解决方案

烧结过程中高收缩率 (~20–25%) 要求在 CAD 模型中进行精确缩放,并使用可靠的烧结曲线。通过优化温度梯度和支撑策略可实现尺寸稳定性。

通过控制脱脂速率和使用具有高堆积密度的细粉末来管理孔隙率和开裂风险。最终密度通常为 95–98%。

较低的断裂韧性需要小心处理,并进行后处理抛光 以减少表面应力集中点,这对于微流控和光学应用尤为重要。

二氧化硅的吸湿性要求存储和打印环境必须控制湿度 (相对湿度 < 40%),以防止缺陷形成。

行业应用场景与案例

二氧化硅 3D 打印应用于:

  • 航空航天:轻质热绝缘材料、透射频结构和型壳芯。

  • 电子:低损耗介电基板和波导组件。

  • 铸造:用于涡轮叶片和发动机外壳的精密熔模铸造模具。

  • 医疗与芯片实验室:微流控卡盒、传感器阵列和惰性外壳组件。

在最近的航空航天铸造应用中,粘结剂喷射 3D 打印的熔融石英模具取代了多部件陶瓷型壳组件,将工装交付周期缩短了 60%,并消除了 4 个组装步骤。

常见问题解答

  1. 为熔模铸造 3D 打印熔融石英有哪些优势?

  2. 在热绝缘方面,SiO₂ 与氧化铝和氧化锆相比如何?

  3. 3D 打印二氧化硅部件可以达到什么样的公差?

  4. 哪些行业从 SiO₂ 3D 打印应用中受益最多?

  5. 烧结二氧化硅部件后需要哪些后处理步骤?

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